新型分步投影光刻机投入使用 [复制链接]

第2版(经济)
专栏：

　　新型分步投影光刻机投入使用
本报讯由电子部四十五所研制的ＢＧ—１０１Ｊ型分步投影光刻机，近日在北京半导体器件三厂投入使用，生产出了合格的十六位微机超大规模集成电路，填补了用国产设备和国内工艺生产军用集成电路的空白。（刘边）