长沙半导体工艺设备研究所 研制成功四种半导体新工艺设备 [复制链接]

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专栏：

长沙半导体工艺设备研究所
研制成功四种半导体新工艺设备
新华社长沙二月十五日电 长沙半导体工艺设备研究所最近研制成功四种半导体新工艺设备。经鉴定证明，这四种特定型号的高能离子注入机、中能离子注入机、液相外延炉和大口径高温扩散炉，在目前都是我国同类设备、装置中比较先进的，其中高能离子注入机的一些主要指标，还达到了国际先进水平。
采用离子注入工艺，可以有效地提高半导体器件性能的稳定和成品率。这个所研制出来的这两种离子注入机，能量连续可调范围分别为二万至四十二万五千电子伏和二万至二十万电子伏，能够分离和注入硼、磷、砷等元素。这些新设备的出现，为我国研制大规模和超大规模集成电路、红外器件、磁泡器件、光集成及微波半导体器件，都提供了良好的技术装备，对化合物半导体工艺和注入冶金学的研究也有促进作用。
液相外延法是在单晶衬底上定向生长单晶薄膜的新工艺。长沙半导体工艺设备研究所研制成功的液相外延炉适用于制造微波、激光、红外、发光器件的液相外延材料。新研制成功的大口径高温扩散炉，是我国大圆片半导体集成电路生产中一种急需的设备。在研制这些新工艺设备的过程中，得到了全国各兄弟单位的大力支持。