超微粒干版 [复制链接]

第2版()
专栏：工业常识

超微粒干版
超微粒干版是生产大规模集成电路的重要基础材料。它是用平均粒径0．05微米以下的微细卤化银乳剂均匀地涂布在平板玻璃上制成的，相当于普通照相用的底版。制做集成电路，首先要设计出电路图，然后经过初、精两次缩微摄影，把电路图拍照在这种超微粒干版上，做成掩膜版，再印制在涂有光刻胶的硅片上，最后处理加工而成。
集成电路分为小规模、中规模、大规模和超大规模四档。其发展趋势是集成度越来越大，图形的几何尺寸越来越小，因此制版精度也越来越高。它要求超微粒干版必须具有高解相力、高清洁度、高平整度。所谓高解相力，就是说用它拍摄的图相虽然很小，但用特殊的方法把它放大后，仍能清晰地分辨出其细微的线条。天津感光胶片厂研制成的超微粒干版在每毫米内可以清楚地拍入三千多黑白相间的线条，而普通的120胶卷只能拍60—70条。超微粒干版的清洁度要求十分严格，干版版面每平方厘米面积上，要求大于3微米的尘埃点只能在3个以下。因此，生产干版需要极高的净化工作环境和技术要求。
超微粒干版是伴随集成电路而发展起来的特种感光材料，目前只有美国、日本、比利时等少数国家能够生产。它除了应用于集成电路的制版工艺外，还可用于光学仪器制造、核物理研究、全息摄影、情报资料的存贮等领域，成为发展电子技术和激光照相技术的关键的基础材料。
杨　军　窦合义