组织科技力量协作攻关　大力发展新兴工业技术 我国研制成三十多项大规模集成电路 专用材料和专用设备，以及基础理论和新工艺、新技术等方面的科学研究都有新进展 [复制链接]

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专栏：

组织科技力量协作攻关　大力发展新兴工业技术
我国研制成三十多项大规模集成电路
专用材料和专用设备，以及基础理论和新工艺、新技术等方面的科学研究都有新进展
据新华社北京8月13日电　最近三年多来，国家科委围绕如何尽快发展大规模集成电路新技术，连续组织了多次全国性的攻关。经过各有关部门的共同努力，目前我国在大规模集成电路的专用材料和专用设备，以及基础理论和新工艺、新技术等方面的科学研究，都不断取得新的进展。
大规模集成电路是国际上六十年代后期发展起来的新兴工业技术。进入八十年代，它的发展仍然方兴未艾。它是现代电子技术的精华，不仅是发展电子计算机的基础器件，而且是各行各业实行技术改造的重要技术基础，具有极为重要的经济价值。因此，党中央决定迅速采取措施，把这项新技术搞上去。
从1979年组织全国攻关以来，依靠我国自己的力量，已经研制成功30多项大规模集成电路，其中水平较高的有：中国科学院半导体研究所研制成功的16K动态存贮器，清华大学研制成功的8085A单片八位微处理器和4K静态存贮器；其他还研制成功1K和4K存贮器，8K只读存贮器；此外，还研制成功了两种八位单片微处理器及部分外围电路。这些成果大都已经通过鉴定，即将进行批量生产。
生产大规模集成电路需要的各种专用基础材料，约有360多种。国家科委就其中的40多种关键材料组织了攻关，现在绝大多数材料在质量和数量方面都已能初步满足国内的需要。
大规模集成电路工业生产所需要的主要专用设备约有60多种。电子工业部、机械工业部、教育部、中国科学院等有关部门做了大量工作，采用直径50毫米硅片的集成电路生产线所用的21种共42台件专用设备，现在我国都已经能够制造。直径75毫米硅片的全套加工设备，可望在今、明两年研制出来并配备齐全。其中自动对准投影光刻机、高精度图形发生器、精密翻版机、程控扩散炉等，都达到了较先进的水平。
在基础理论和新工艺、新技术的研究方面，我国科技人员也有一些创新和突破。其中如计算机的辅助设计软件和无磨料抛光等新工艺、新技术的研究，都取得了较快的进展。