直接分步曝光机研制成功 [复制链接]

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专栏：

直接分步曝光机研制成功
本报讯　电子工业部第四十五研究所研制成功可实用的直接分步曝光机。这是我国超大规模集成电路工艺研究制造工作上的一项重大突破。
利用光学曝光技术把中间掩模缩小投影，直接在经过处理的硅片上进行曝光，是七十年代后期出现的新技术，电子工业部第四十五研究所，经过多年努力，攻克许多技术难关，终于研制成功了这台新设备。（郑婧艳）