全自动快速热处理设备问世 [复制链接]

第1版(要闻)
专栏：新闻简报

　　全自动快速热处理设备问世
达到国际九十年代先进水平、由我国自行设计和研制的全自动快速热处理设备，三月七日在清华大学通过专家鉴定。国家“七五”科技攻关项目全自动快速热处理设备，是超大规模集成电路研制和生产的关键设备之一，它可以在三秒钟之内将硅片加热到一千摄氏度，又可以在几秒钟内将加热的硅片冷却到三百摄氏度以下。