我一点五至二微米实用型直接分步光刻机首告成功该机能满足我国“八五”期间集成电路研制和生产的需要，将对微电子工业起到推动作用 [复制链接]

第3版(教育·科技·文化)
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　　我一点五至二微米实用型直接分步光刻机首告成功
该机能满足我国“八五”期间集成电路研制和生产的需要，将对微电子工业起到推动作用
本报讯　记者温红彦报道：中国科学院“八五”重大项目“微电子专用装备技术研究”中的“１．５—２微米直接分步重复投影光刻机实用化改进”课题，经过机器改进和工艺考核，现已完成研制任务并通过了专家鉴定。鉴定委员会由我国著名半导体专家王守武、林兰英、李志坚三位学部委员任正副主任。
光刻机在微电子工业中占有举足轻重的地位，近年来在国际上发展十分迅速。
由中科院光电技术研究所研制成功的这台光刻机，是国内首台可供实用的样机，能在集成电路板上刻出是头发丝的几百分之一的线路。该机采用全新的电视对准系统，在国内首次实现了硅片掩模自动对准。该机还采用了自行研制的１０倍精缩投影物镜与新型光均匀器组成的曝光系统，实用分辨率优于１．５微米，成品率优于５０％，该机的研制成功打破了国外对同类产品的禁运。
专家认为，该机能满足“八五”期间国内集成电路生产和研制的需要，必将对我国微电子工业起到推动作用。