| 赵学文 |
1987-05-30 23:00 |
北京大学制出84K超导薄膜
第3版(科教·文化·体育)
专栏：
北京大学制出84K超导薄膜
本报讯 日前，北京大学制备出零电阻温度为84K，高于液氮正常沸点（77.3K）的超导薄膜。
这种薄膜厚0.5微米到1微米，是用电子束蒸发技术分别将钇、钡的氧化物和铜分层蒸发在衬底上后再进行扩散处理而得到的，工艺可以重复。制作这种薄膜的关键是选择合适的衬底材料和进行适当的热处理。
北京大学经过广泛试验，发现以某种氧化物作衬底较好。北大制得的薄膜就是用氧化物衬底制得的。为使薄膜与衬底附着牢靠，蒸发薄膜时衬底应适当加热，蒸得的薄膜经适当热处理后，在100K以上表现了良好的金属性电阻温度关系。
据了解，北京大学目前正在用所得的超导薄膜开展可在液氮温度下使用的超导器件的研制工作。
（赵学文） |
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